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DIN 50460

Bestimmung der magnetischen Eigenschaften von weichmagnetischen Werkstoffen; Allgemeines, Begriffe, Grundlagen der Prüfverfahren

Determination of magnetic properties of soft magnetic materials; general, terminology and principles of measurement

DIN 50455-2

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists

DIN 50455-1

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods

DIN 50453-2

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method

DIN 50162

Prüfung plattierter Stähle; Ermittlung der Haft-Scherfestigkeit zwischen Auflagewerkstoff und Grundwerkstoff im Scherversuch

Testing of clad steels; determination of shear strength between cladding metal and parent metal in shear test

DIN 50280

Laufversuch an Radialgleitlagern; Allgemeines

Running Test on Radial Plain Bearings; General

DIN 50282

Gleitlager - Tribologisches Verhalten von metallischen Gleitwerkstoffen - Kennzeichnende Begriffe

Plain bearings - Tribological behaviour of metallic antifriction materials - Significant terms

DIN 50450-2

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 2: Determination of Oxygen impurities in Nitrogen, Argon, Helium, Neon and Hydrogen using a galvanic cell

DIN 50450-9

Pr&uuml;fung von Materialien f&uuml;r die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Tr&auml;ger- und Dotiergasen - Teil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C<(Index)1>-C<(Index)3>-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatographie

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 9: Determination of oxygen, nitrogen, carbonmonoxide, carbondioxide, hydrogen and C<(Index)1>-C<(Index)3>-hydrocarbons in gaseous hydrogen chloride by gaschromatography

DIN 50452-2

Pr&uuml;fung von Materialien f&uuml;r die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Fl&uuml;ssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelz&auml;hlern

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 2: Determination of particles by optical particle counters

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